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產(chǎn)品類目

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SIGMAKOKI西格瑪強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡

產(chǎn)品型號：TFMHP-50C08-266

產(chǎn)品品牌：SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)

產(chǎn)品介紹：

適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準(zhǔn)分子激光的光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡。

詳細(xì)介紹

SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡 / TFMHP-50C08-266

適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準(zhǔn)分子激光的光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡。

可以提供用于YAG激光器的，從基波（1064nm）到4次諧波（266nm）的反射鏡和ArF（193nm），KrF（248nm）的準(zhǔn)分子激光用的反射鏡。
反射率高，經(jīng)過多個反射鏡反射后，光量也不會衰減很多。
使用吸收小的電介質(zhì)膜，可以承受大功率激光的連續(xù)照射。

注意
使用前，請確認(rèn)入射激光光束的能量密度不要超過激光損傷閾值。
通過透鏡或凹面反射使激光光束變細(xì)后入射時，可能有能量密度超過激光損傷閾值，反射鏡受破損的危險。
入射光束的光量很大的時候，光束可能透過反射鏡（透過率1%以下）。請務(wù)必在反射鏡的反面遮擋散亂光。
紫外譜區(qū)的反射鏡有產(chǎn)生熒光的可能。對反射鏡熒光有疑問的客戶請至營業(yè)部門咨詢。
多層電介質(zhì)膜因為入射光束的偏光狀態(tài)不同其反射率波長特性將會有改變。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射譜區(qū)變窄。
技術(shù)指標(biāo)的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來表示的。
在設(shè)計波長以外的波長區(qū)域使用時，反射率有可能降低。

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適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準(zhǔn)分子激光的光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡。

適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準(zhǔn)分子激光的光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡。