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測量項目：[膜厚、折射率n、消光系數(shù)k]. 測量原理：[分光干涉法]. 測量對象：[光刻膠、SiO2、Si3N4等]. 測量范圍：[1nm~92μm]....
● 非接觸、非破壞式，量測頭可自由集成在客戶系統(tǒng)內
● 初學者也能輕松解析建模的初學者解析模式
● 高精度、高再現(xiàn)性量測紫外到近紅外波段內的**反射率，可分析多層薄膜厚度、光學常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
● 單點對焦加量測在1秒內完成
● 顯微分光下廣范圍的光學系統(tǒng)（紫外 ~ 近紅外）
● 獨立測試頭對應各種inline定制化需求
● *小對應spot約3μm
● ****可針對超薄膜解析nk
量測項目
● **反射率分析
● 多層膜解析（50層）
● 光學常數(shù)（n：折射率、k：消光系數(shù)）
膜或者玻璃等透明基板樣品，受基板內部反射的影響，無法正確測量。OPTM系列使用物鏡，可以物理去除內部反射，即使是透明基板也可以實現(xiàn)高精度測量。此外，對具有光學異向性的膜或SiC等樣品，也可完全不受其影響，單獨測量上面的膜。
應用范圍
● 半導體、復合半導體：硅半導體、碳化硅半導體、砷化鎵半導體、光刻膠、介電常數(shù)材料
● FPD：LCD、TFT、OLED（有機EL）
● 資料儲存：DVD、磁頭薄膜、磁性材料
● 光學材料：濾光片、抗反射膜
● 平面顯示器：液晶顯示器、薄膜晶體管、OLED
● 薄膜：AR膜、HC膜、PET膜等
● 其它：建筑用材料、膠水、DLC等