光波動(dòng)場(chǎng)三次元顯微鏡MINUK
—— 洞察真相，描繪未來。
ü 特點(diǎn)?. 可評(píng)價(jià)納米級(jí)的透明異物、缺陷、傷痕的大小、厚度、形狀。
ü 特點(diǎn)?. 一次拍照即可瞬時(shí)獲取深度方向的信息。
ü 特點(diǎn)?. 無需對(duì)焦，可高速測(cè)量。
ü 特點(diǎn)?. 可非破壞、非接觸、非侵入的測(cè)量。
ü 特點(diǎn)?. 可在任意的面進(jìn)行高速掃描，輕松決定測(cè)量位置。
日本大塚電子株式會(huì)社是以光技術(shù)為核心的檢測(cè)儀器公司，從事用于開發(fā)、制造以及銷售醫(yī)療、計(jì)測(cè)、理化領(lǐng)域的儀器和設(shè)備。日本大塚電子株式會(huì)社歷經(jīng)5年多的時(shí)間，將大塚電子長(zhǎng)期以來所積累的光學(xué)測(cè)量技術(shù)融入其中，2024年開發(fā)出了新產(chǎn)品光波動(dòng)場(chǎng)三維顯微鏡“MINUK”。
MINUK*具代表性的是顯示器用光學(xué)薄膜等功能性薄膜行業(yè)。由于可以測(cè)量世界上存在的以往的顯微鏡和臺(tái)階儀無法測(cè)量的傷痕、異物、形狀，所以得到了來自各行各業(yè)的支持。
MINUK所使用的觀察方法為大塚所**的至今*****。通過向測(cè)量對(duì)象物照射激光，而對(duì)象物的厚度和折射率會(huì)發(fā)生變化，進(jìn)而導(dǎo)致波面變化，針對(duì)這種變化，使用波面?zhèn)鞲衅鲗?duì)其進(jìn)行捕捉，而后使用**的軟件進(jìn)行數(shù)值解析，再現(xiàn)圖像。通過這一設(shè)備，使用者可瞬時(shí)獲取1400微米深度方向的對(duì)焦信息，在對(duì)此信息進(jìn)行數(shù)碼重新對(duì)焦后，可進(jìn)行三維構(gòu)造的追加驗(yàn)證。同時(shí)，在獲取數(shù)據(jù)后，設(shè)備可在之后通過軟件在任意的深度和位置進(jìn)行重新對(duì)焦。700微米×700微米的寬廣視野，可捕捉到小于0.5微米的線的寬度，實(shí)現(xiàn)高分辨率，且由于光學(xué)系未使用透鏡，因此成像無失真和像差。
根據(jù)所觀察的內(nèi)容，使用者可以選擇獲取一次拍照?qǐng)D像或高品質(zhì)圖像兩種模式。在一次拍照模式下，可實(shí)時(shí)高速測(cè)量，通過視頻觀察隨時(shí)間變化；而在高品質(zhì)圖像模式下，可獲得高品質(zhì)的圖像。
作為應(yīng)用，它可以測(cè)量透明材料和薄膜，如透明凝膠中異物的高度和三維形貌、薄膜內(nèi)部的填充劑、透明薄膜表面的劃痕，且能確認(rèn)到劃痕的高度、截面形狀和三維形貌。例如檢測(cè)智能手機(jī)中防反射膜和顯示器中的偏光板膜上的透明傷痕及異物。
未來除薄膜或玻璃透明材料外，也有望在半導(dǎo)體、生物醫(yī)學(xué)、化學(xué)等領(lǐng)域得到應(yīng)用。
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分辨率 x,y
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691nm（Oneshot）、488nm（合成）
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視野 x,y
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700×700μm
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分辨率 z
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10nm（相位差）
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視野 z
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±700μm
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樣品尺寸
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100×80×t20mm（通用樣品臺(tái)）
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樣品臺(tái)
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微動(dòng)XY樣品臺(tái)（自動(dòng)）
X:±10mm Y：±10mm
粗動(dòng)樣品臺(tái)
X：129mm Y：85mm
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激光
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波長(zhǎng) 638nm
輸出 0.39mW 以下 Class1 (測(cè)樣樣品上的照射強(qiáng)度)
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儀器尺寸
（寬度×縱深×高度）mm
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本體：505（W）×630（D）×439（H）
※不含PC、附屬品
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重量
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41kg
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消耗功率
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本體：290VA
※不含PC、附屬品
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