ü 特點?. 可評價納米級的透明異物、缺陷、傷痕的大小、厚度、形狀。
ü 特點?. 一次拍照即可瞬時獲取深度方向的信息。
ü 特點?. 無需對焦，可高速測量。
ü 特點?. 可非破壞、非接觸、非侵入的測量。
ü 特點?. 可在任意的面進行高速掃描，輕松決定測量位置。
日本大塚電子株式會社是以光技術(shù)為核心的檢測儀器公司，從事用于開發(fā)、制造以及銷售醫(yī)療、計測、理化領(lǐng)域的儀器和設(shè)備。日本大塚電子株式會社歷經(jīng)5年多的時間，將大塚電子長期以來所積累的光學測量技術(shù)融入其中，2024年開發(fā)出了新產(chǎn)品光波動場三維顯微鏡“MINUK”。
產(chǎn)品賣點
MINUK*具代表性的是顯示器用光學薄膜等功能性薄膜行業(yè)。由于可以測量世界上存在的以往的顯微鏡和臺階儀無法測量的傷痕、異物、形狀，所以得到了來自各行各業(yè)的支持。
MINUK所使用的觀察方法為大塚所**的至今*****。通過向測量對象物照射激光，而對象物的厚度和折射率會發(fā)生變化，進而導致波面變化，針對這種變化，使用波面?zhèn)鞲衅鲗ζ溥M行捕捉，而后使用**的軟件進行數(shù)值解析，再現(xiàn)圖像。通過這一設(shè)備，使用者可瞬時獲取1400微米深度方向的對焦信息，在對此信息進行數(shù)碼重新對焦后，可進行三維構(gòu)造的追加驗證。同時，在獲取數(shù)據(jù)后，設(shè)備可在之后通過軟件在任意的深度和位置進行重新對焦。700微米×700微米的寬廣視野，可捕捉到小于0.5微米的線的寬度，實現(xiàn)高分辨率，且由于光學系未使用透鏡，因此成像無失真和像差。
根據(jù)所觀察的內(nèi)容，使用者可以選擇獲取一次拍照圖像或高品質(zhì)圖像兩種模式。在一次拍照模式下，可實時高速測量，通過視頻觀察隨時間變化；而在高品質(zhì)圖像模式下，可獲得高品質(zhì)的圖像。
產(chǎn)品應(yīng)用
作為應(yīng)用，它可以測量透明材料和薄膜，如透明凝膠中異物的高度和三維形貌、薄膜內(nèi)部的填充劑、透明薄膜表面的劃痕，且能確認到劃痕的高度、截面形狀和三維形貌。例如檢測智能手機中防反射膜和顯示器中的偏光板膜上的透明傷痕及異物。
未來除薄膜或玻璃透明材料外，也有望在半導體、生物醫(yī)學、化學等領(lǐng)域得到應(yīng)用。
規(guī)格式樣
分辨率 x,y
691nm（Oneshot）、488nm（合成）
視野 x,y
700×700μm
分辨率 z
10nm（相位差）
視野 z
±700μm
樣品尺寸
100×80×t20mm（通用樣品臺）
樣品臺
微動XY樣品臺（自動） X:±10mm Y：±10mm 粗動樣品臺 X：129mm Y：85mm
激光
波長 638nm
輸出 0.39mW 以下 Class1 (測樣樣品上的照射強度)
儀器尺寸 （寬度×縱深×高度）mm
本體：505（W）×630（D）×439（H） ※不含PC、附屬品
重量
41kg
消耗功率
本體：290VA ※不含PC、附屬品